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    通過將精細電路圖案曝光在稱為晶圓的半導體基板上而制成的。

    而光刻機設備的作用就是在掩膜版上繪制的電路圖案，通過投影透鏡縮小，再將圖案曝光在硅晶圓上。

    光刻機作為芯片生產過程中，復雜性最高，技術含量最高的設備，被稱為半導體工業皇冠上的明珠。

    芯片生產，光刻機是很重要。但也只是沉積，光刻，刻蝕，離子注入、清洗、氧化、檢測，這前七道生產芯片工藝環節中的一道環節設備。

    單單靠一臺光刻機，就直接造出一枚枚芯片出來，這簡直就是天方夜譚的事。

    木村光一帶著眾人來到了一臺顯微鏡邊，他拿出了一片晶圓遞給徐教授，并說道：“這片晶圓的芯片，光刻環節是由霓糠公司N79K光刻機完成的。”

    很顯然，他是想讓徐教授去觀看芯片里的微觀結構，來證明霓糠公司的光刻機是不是真的已經達到一微米了。

    “謝謝！”徐教授說完接過晶圓，并把它放在顯微鏡下，仔細的看了起來。

    現場異常的安靜……

    也不知道過了多久.....

    徐教授深吸一口氣，默不作聲，離開了顯微鏡。

    “老徐，怎么樣？”

    “是啊！老徐，你倒是說句話啊！”

    徐教授無奈的回答道：“你們自己看吧！”

    聞言，陳工、王工、李工、趙工等眾人也輪流觀看起顯微鏡下芯片里的晶圓微觀結構。

    陳工最先開口：“這片芯片的工藝節點精度數，比我們造的芯片工藝節點精度數，要小很多。

    每一塊芯片里面，容納的晶體管數至少有十幾萬個。”

    王工看向徐教授，“確實是使用了一微米曝光度的光刻機，可以不用懷疑。

    現在，島國光刻機技術毋庸置疑，已經是最強國家了。”

    1亳米＝1000微米

    1微米＝1000納米
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