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第三百一十二章 40nm工藝的突破-《千禧年半導(dǎo)體生存指南》


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    干式光刻機(jī)在193nm波長下的極限就是65nm,除非找到波長更短的光。

    新芯光刻機(jī)從2000年,林本堅正式加入新芯光刻機(jī)之后,他作為新芯光刻機(jī)的CEO就開始做浸潤式光刻機(jī)的理論研究,以及少數(shù)論證實(shí)驗。

    在2003年周新回國前夕和林本堅長談后,周新的支持讓新芯光刻機(jī)正式開始浸潤式光刻機(jī)的研究,周新利用自己的人脈關(guān)系,找到蔡司背后的國際資本集團(tuán),通過一系列的利益交換,讓蔡司全力配合新芯光刻機(jī)的研發(fā)。

    進(jìn)入到2006年之后,新芯光刻機(jī)基于浸潤法的光刻機(jī)已經(jīng)研發(fā)出了樣品,當(dāng)世界上最先進(jìn)工藝是65nm時,通過浸潤法把波長從193nm縮短到134nm,順利把芯片的最先進(jìn)制程從65nm推進(jìn)到了40nm。

    新芯內(nèi)部由關(guān)建英、胡正明、林本堅、周新和梁孟松搞了一個小型的慶祝晚宴,來慶祝新芯科技把極限制程從65nm推進(jìn)到了40nm。

    對新芯來說,這就是一座金山,并且技術(shù)的優(yōu)勢能讓Mphone比市面上其他手機(jī)領(lǐng)先一代。

    Matrix有三年時間沒有發(fā)新機(jī)了,其他手機(jī)巨頭們陸續(xù)攻克了多點(diǎn)觸控觸摸屏技術(shù)。

    最初各家手機(jī)廠商還有一些別的想法,想在智能手機(jī)領(lǐng)域搞一些創(chuàng)新,等這些創(chuàng)新陸續(xù)失敗,哪怕是被諾基亞寄予厚望的N97在市場上同樣表現(xiàn)平平,而微軟收購Plam后照著Mphone2推出的Plam 1大獲成功后。

    去年各大手機(jī)廠商推出的智能機(jī)都照著Mphone2的樣子,盡可能1比1還原,這也讓Mphone2失去了原本的優(yōu)勢,每年推出新配色很難再吸引用戶換機(jī)。

    這不代表Mphone2在過去一年時間里銷量不好,作為智能手機(jī)行業(yè)絕對的王者,即便Mphone沒有更新,銷量依然占據(jù)榜首,只是說因為Matrix遲遲不推出Mphone3,導(dǎo)致老用戶缺乏更換新機(jī)的動力。

    光刻機(jī)工藝突破到40nm,加上屏下指紋技術(shù)成熟,周新知道Matrix再次給世界帶來震撼的時候到了。

    “林叔,這兩年辛苦了,新芯光刻機(jī)的成功能讓業(yè)界重新認(rèn)識新芯。

    新芯光刻機(jī)也是時候改變現(xiàn)有格局了。”他們四個都不喝酒,晚上喝茶會睡不著,所以大家杯子里都是水,周新連杯子都沒有舉,純在干聊。

    林本堅很感慨:“我雖然知道這條技術(shù)路線一定可以,我從來沒有懷疑過自己。

    但是真正在做出來的這一刻,還是讓我很感慨,有種自己人生四十年的堅持終于獲得了回報。”

    林本堅在離開IBM之后,他是屬于被IBM內(nèi)退,因為他所堅持的技術(shù)路線不被IBM光源這個研究方向的負(fù)責(zé)人看好,有點(diǎn)被趕出來的意思。

    在場的四個人里,只有胡正明還好,伯克利一直對他不錯,其他三個人多多少少都有點(diǎn)辦公室政治斗爭的失敗者。

    在成功研發(fā)浸潤式光刻機(jī)之后,林本堅的職業(yè)生涯迎來了某種程度上的圓滿。

    周新說:“我一直相信這一點(diǎn),新芯天生具備成功的基礎(chǔ)。

    和ASML相比,我們有著芯片生產(chǎn)的制造環(huán)節(jié),這種優(yōu)勢讓我們在測試浸潤式的時候更有優(yōu)勢。”

    梁孟松作為去年才加入新芯的新人,因為其在臺積電的戰(zhàn)績驚人以及胡正明學(xué)生的身份,周新給予了他很大的信任,幾乎是加入新芯后的第一時間就讓他擔(dān)任了新芯芯片制造環(huán)節(jié)的負(fù)責(zé)人。

    同時因為梁孟松身上有競業(yè)協(xié)議,新芯為他繳納了高達(dá)兩千萬美元的巨額違約金。

    梁孟松加入后也不孚眾望,短短半年時間讓新芯在90nm制程中再度實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破和良品率的提升。

    同時他加入后一手主導(dǎo)了新芯在獅城65nm生產(chǎn)線的建設(shè),目前也即將投產(chǎn)。

    林本堅說:“主要還是這條路線確實(shí)可行,路線可行,只要投入時間和足夠的資源遲早能夠看到成果。

    我們算是比較幸運(yùn)的了,能夠趕在尼康和佳能在做出157nm光源前順利完成浸潤式光刻機(jī)的研發(fā)。”

    新芯選擇的是后世ASML的技術(shù)路線,也就是浸潤式光刻機(jī),而尼康、佳能包括ASML在當(dāng)下,都選擇的是研究波長更短的光源。

    后世在ASML推出浸潤式光刻機(jī),成功把芯片制程推進(jìn)到40nm之后不久,尼康就順利研發(fā)出來了基于157nm光源的干式光刻機(jī)。

    可惜太晚了,那個時候ASML已經(jīng)占據(jù)了40nm光刻機(jī)的主流市場,尼康一步慢步步慢,喪失了整個光刻機(jī)市場。

    現(xiàn)在是最好的時間,光源還沒有實(shí)現(xiàn)突破,新芯已經(jīng)率先實(shí)現(xiàn)突破,直接繞過了65nm進(jìn)入到40nm制程。

    胡正明說:“我們速度需要快,盡可能快的推向市場。

    同時我們要把新芯的光刻機(jī)推銷出去,之前新芯雖然做光刻機(jī),但是在全球市場上并沒有我們的名號。
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