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    一直以來半導體行業發展的推動力來自小型化趨勢，既能降低生產成本，又能提高元器件性能。

    像華國未來要搞的光刻廠，力大磚飛屬于毛子會選的技術路線，倒不是說這種技術不好，而是這種技術不適合過去二十年經濟全球化、半導體產業高度分工的趨勢。

    當趨勢結束，光刻機小型化變得不再重要，把東西造出來最重要。

    當下還處于經濟全球化的黃金時期，ASML的光刻機一體化讓參展的半導體企業眼前一亮。

    大家認為這是ASML時隔五年之后，對新芯光刻機在東京半導體設備展的回應。

    跨越五年的回應。

    隨著半導體器件尺寸的縮小，工藝窗口(生產出合格芯片的工藝允許偏差)也會相應減小，使套刻精度和器件尺寸均勻性等參數變得更為嚴格。

    ASML能做光刻機一體化，是因為歐美過去數十年積累的技術優勢，在精度上能夠滿足光刻機一體化的要求，如果新芯能夠獲得供應鏈上下游的支持，他們同樣能做到。

    問題是這些企業很多都受到瓦森納協定的限制，導致新芯在工藝制程上再度落后。

    ASML應用產品部門的資深副總裁伯特說：“一直以來，芯片廠商對各個制造工藝步驟的優化都是獨立進行的，然而當發展至32nm的時候。

    這種獨立的優化模式便不再適用。我們有效地綜合了計算光刻技術、晶圓光刻技術和工藝控制，提供了一個全面方案，針對量產的要求去優化工藝窗口和光刻系統設置，最終實現更小的器件尺寸。

    是的，這是我們第一次反超新芯光刻機和尼康，成為全球光刻機工藝的No.1。”

    伯特很得意，歐美資本對ASML的支持完全可以用不遺余力來形容。

    即便是在金融危機期間，先是荷蘭給了ASML一筆10億美元的無息貸款，然后是英特爾和臺積電參與了ASML的再融資。

    要知道臺積電可是裁員了一萬人。

    而ASML不僅沒有裁員，反而擴充了研發部門。

    新芯也沒閑著，同樣擴大了對新芯光刻機以及上下游國產供應商的扶持，同時為了打壓ASML的市場，新芯光刻機還降價了。

    新芯和AMSL在光刻機領域的競爭，帶來的直接后果就是尼康和佳能被干得奄奄一息，ASML和新芯光刻機擴張的員工，大部分都來自尼康和佳能。

    尼康別說擴張和研發，他們連之前的產能都維持不住了。

    要不是華盛頓盯著，尼康甚至想把光刻機業務剝離出來賣給新芯。不讓我玩，我干脆不玩了。

    “在芯片設計階段，ASML的一體化光刻技術使用實際的光刻機配置和調節功能，以工藝窗口最大化為目標來創建瞄準指定工藝世代和應用的設計。

    他們采用了全新的光源掩模優化技術，可以為光瞳形狀帶來靈活性，并提供額外設計自由度。ASML這次舊金山的發布會放了很多大招，這些技術的結合，使光源掩模和照明源實現無以倫比的協同優化，幫助他們獲得了最大的工藝窗口。”林本堅神情凝重。

    因為ASML提前放出消息，稱他們這次會有很多新技術。所以林本堅是去參加了舊金山的電子展，他在參加完回到張江后倍感壓力。

    “在制造過程中，ASML他們整的這套一體化光刻技術充分利用獨特的測量技術和反饋回路，可以實時監控刻蝕精度和CPU性能，使系統持續以工藝規格為中心。”林本堅繼續說。

    新芯光刻機的技術專家們匯聚一堂，大家都在討論ASML這次放的大招，可能給新芯光刻機帶來的影響，以及他們要怎么追趕。

    “老實說這一套我們也能搞，問題是我們需要知道，ASML在這套技術路線里，設置了哪些專利墻，如果專利墻太多，我們可能要想繞開的辦法。”新芯光刻機的某位技術專家說。

    (本章完)

    　　


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