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    不止是徐教授，眾人同樣用不可思議的眼神看著木村光一，目光中帶著無法言說的迫切。

    華夏經(jīng)過二十多年的研發(fā)，光刻機技術才達到3微米的精度。

    而眼前的光刻機則是在六十年代末，意在電子產(chǎn)業(yè)圖騰的冬之公司，才開始進入光刻領域，研發(fā)出來的，現(xiàn)在就已經(jīng)達到了1微米曝光度了嗎？

    這差距....也太大了吧！

    有些不可相信。

    看木村光一的表情，也不像是在說謊。

    他也沒有必要說謊。

    但他的話，對來自華夏光刻科研人員的打擊實在是太大了。

    可打擊遠不止于此！

    “這臺是霓糠公司的最新型號N1010G，也是能達到一微米曝光的光刻機...。

    而這臺呢？

    則是在1975年，世界上首次實現(xiàn)了1微米以下曝光的加能F141F光刻機。”木村光一輪流指著另兩臺設備繼續(xù)介紹道。

    “.......”

    “他們是怎么做到的？”

    “是啊！1975年就可以做到1微米以下曝光的光刻機，這島國科研速度也太可怕了吧！”華夏科研人員討論聲不斷。

    好不容易聚集了華夏科研全力，研發(fā)出來的光刻機，如果是拎出來和眼前的這幾臺進行比較的話，當然是能被秒成渣渣。

    閉門造車太久了，對于門外的事情是一無所知。

    看來想要與國際接軌，并不是一拍腦門就能夠一切順利的事情。

    加能公司在1975年就可以達到1微米以下曝光的這個事實，無異于一盆冬日里的冷水，劈頭蓋臉的將眾人振興華夏光刻機的希望之火，盡數(shù)澆滅。

    光刻機本質(zhì)其實是投影儀加照相機。

    半導體器件的制造過程中，光刻機承擔“曝光”的作用。

    　　


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