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    其實在三星、臺積電、英特爾三家生產的CPU，在性能上的對比，甚至還是英特爾更勝一籌。

    為什么三星、臺積電的5納米，還干不過英特爾的12納米?

    這就是雙方不同的工藝標準，導致英特爾和三星、臺積電看似存在差距，實際上，是三星、臺積電在標準上搞的鬼。

    光刻法的極限工藝，就在12納米附近，畢竟光刻要靠深紫外光和蝕刻，這是紫外光的物理性質決定的。

    而紡織法的極限，取決于納米線的橫截直徑，理論上單原子的納米線，橫截直徑在0.5納米左右。

    不過黃修遠明白，0.5納米的芯片工藝，現階段基本不可能實現，單單是一個量子隧穿效應，就足以讓芯片報廢。

    為什么人類要追求更加小的芯片工藝?

    答案是能耗。

    更加精細的晶體管，可以有效的降低芯片的能耗。

    如果單純的追求運算力的提升，其實可以采用超算的刀片服務器搭建方式，不斷增加芯片的數量。

    在商業應用上，運算力雖然是一個大指標，但是真正的核心因素，是單位運算力的能耗，即我們常說的能效比。

    假如，有甲乙兩款芯片，其浮點運算力都是每秒10億次，甲芯片采用28納米工藝，而乙芯片采用22納米工藝，兩者的單位能耗是，通常是甲高于乙。

    或許個人用戶感覺不明顯，但是那些互聯網大廠，一年要付幾億乃至幾十億電費，就不得不考慮能耗問題了。

    這就是為什么，璃龍1誕生后，各大互聯網公司不得不采購的原因之一，其中就有能耗的考慮。

    黃修遠看著眼前的芯片紡織機，12納米工藝雖然可以生產芯片，但是速度卻下降得厲害，平均每秒只能加工兩三千個晶體管。

    比起速度驚人的緇衣—1、緇衣—2，緇衣—4的速度明顯太低了。

    “修遠，我打算將第二半導體實驗室的立體工藝引入12納米工藝上，你怎么看?”陸學東提議道。

    放下手上的圓珠筆，黃修遠思考了一會：“第二半導體實驗室的立體工藝，應該沒有成熟吧?”

    “是的，散熱是一個大問題。”陸學東無奈的攤攤手。

    紡織法在立體芯片上，基本天然的優勢，但是立體的多層芯片，并不是隨隨便便可以疊加的。
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