第(1/3)頁 “你怎么知道采用ArF技術(shù)會造成更多的線邊波動和不規(guī)則性？ 關(guān)于ArF技術(shù)路線，在IEEE的雜志上有，但是無論是尼康還是佳能的工程師發(fā)表在上面的論文，都只說了好處沒有說缺陷?！绷直緢泽@訝地問。 周新說：“尼康和佳能為了誤導(dǎo)競爭對手，故意不談ArF技術(shù)路線的缺點。 為的就是讓競爭對手也踩到這個坑里去。 他們已經(jīng)投入了大筆研發(fā)經(jīng)費到ArF技術(shù)路線，沒有找到辦法解決ArF光源帶來的線邊波動和不規(guī)則性問題，所以他們認為其他競爭對手也解決不了這個問題?！? 林本堅默默點頭：“沒錯。 就是這樣。” 周新繼續(xù)說：“在技術(shù)路線上誤導(dǎo)競爭對手，這不是集成電路領(lǐng)域的常規(guī)操作嗎？” 林本堅還是很好奇，他知道ArF技術(shù)路線的缺陷，是因為他從事這個領(lǐng)域的研究超過二十年，他有大量的人脈。 由于保密協(xié)議的緣故，他的朋友無法直接告訴他，只能通過暗示的方式，向他透露ArF技術(shù)路線有重大缺陷。 他對此也只是猜測，沒有證據(jù)的猜測。 為什么周新能夠說得如此篤定，并且把ArF技術(shù)路線的缺陷也說得如此清楚。 要知道有資格進行ArF技術(shù)路線實驗的實驗室，也就那幾家光刻機公司。 周新戰(zhàn)術(shù)喝水之后說：“林伯，我知道你在想什么，我是不是買通了尼康的技術(shù)人員，從他們那獲得了技術(shù)機密。 實際上ArF技術(shù)路線的缺陷，這很容易就推理出來。 ArF光源的波長為193納米，相較于KrF光源的248納米波長更短。短波長光源在光刻過程中，顯然會受到更嚴重的散射、衍射和光學(xué)近場效應(yīng)的影響，導(dǎo)致圖案傳輸過程中的線邊波動和不規(guī)則性增加。 同時使用ArF光源的光刻技術(shù)用于更先進的制程節(jié)點中，這導(dǎo)致晶圓需要實現(xiàn)更高的分辨率。 隨著尺寸的縮小，光刻過程中的圖案邊緣更容易受到光學(xué)近場效應(yīng)、衍射和光刻膠吸收等因素的影響，從而導(dǎo)致線邊波動和不規(guī)則性。 這是基于物理知識的推論。” 林本堅鼓掌，“精彩的推演和敏銳的洞察力。 當時正明和我說他從燕大找到了天才學(xué)生的時候，我還在想到底有多天才，讓他那么得意。 你在這方面的天賦比我猜測的還要更出色。 伱剛剛說的還差了兩點。 一點是ArF光源的波長更容易被光刻膠吸收，這會導(dǎo)致光刻膠的曝光不均勻，進而影響成像質(zhì)量。所以需要專門針對ArF光源設(shè)計專門的光刻膠。 但是專門針對ArF光源設(shè)計光刻膠，來減少吸收呢，新光刻膠又很有可能會進一步造成線邊波動和不規(guī)則性。 另外采用ArF來構(gòu)建先進制程，會采用多重曝光技術(shù)、相位移光掩膜技術(shù)和偏振光技術(shù)等。 這些技術(shù)一定程度上又會增加線邊波動和不規(guī)則性。 所以造成線邊波動的原因比你猜測的更多?！? 周新問：“可是有這么多困難，為什么前輩你還是看好ArF路線？” 周新怎么知道林本堅看好ArF技術(shù)路線，因為林本堅這次在參加光學(xué)大會接受采訪的時候自己說的。 “是幫光刻機公司打掩護嗎？” 林本堅笑了：“我已經(jīng)從IBM離職了，IBM這幾年也幾乎沒有在光刻機領(lǐng)域繼續(xù)投入了。 我又沒有為尼康或者佳能工作，為什么要幫他們打掩護。 我當然是從我內(nèi)心出發(fā)更加看好ArF技術(shù)路線。 我們剛剛說的是ArF的缺點，這些缺點只是暫時的。 在KrF光源代替g線和i線的過程中，同樣有很多困難?！? g線是436nm波長的光源，i線是365nm波長的光源。 “相對于g線和i線，KrF需要新的光刻膠和抗反射涂層材料來適應(yīng)KrF光源的特性。 同時KrF要求更高性能的光學(xué)系統(tǒng)和光掩膜材料。當時需要采用更先進的透鏡和光學(xué)元件，以實現(xiàn)更高的數(shù)值孔徑和分辨率。 此外，光掩膜材料也需要具有更低的散射和吸收特性。 KrF還需要優(yōu)化曝光過程，以提高成像質(zhì)量。我們當時主要采用了雙重曝光和離焦曝光技術(shù)來降低光刻誤差。 讓我想想，對了，我們當時在研發(fā)KrF光源的時候還要對控制進行考慮，因為KrF實現(xiàn)了更高的分辨率，所以需要更嚴格的制程控制要求。 需要對光刻膠涂覆厚度、曝光劑量、顯影過程等參數(shù)進行更精確的控制，以保證光刻成像質(zhì)量和產(chǎn)量。 這么多困難，我們照樣克服了，最終KrF光源代替了g線和i線，成為了今天的最先進的制程光源。 同樣未來短波長的光源勢必然會代替長波長的光源，這是技術(shù)進步的必然。 第(1/3)頁